在超純水設備運作一段時間后，EDI控制模塊內部水路將會造成堵塞，這主要是EDI進水里帶有較多物質的量濃度，在濃水室產生鹽的沉定。碰到這類狀況，我們可以根據開展EDI化學水處理的方式 對EDI控制模塊開展清理，隨后再開展EDI再造

如果我們對edi設備沒有及時的清洗或者更換，那么在后續使用的過程中可能會影響到出水的質量以及使用壽命，我們需要對其多長時間清洗一次？

水資源的危機一直是我國的重點問題。EDI系統水是生物們存活的基本要求，然而當今的水污染非常嚴重，這與我們的生活息息相關

連續電除鹽（Continuous Electrodeionization，CEDI）是由Rex L. Svec和S. D. Kincaid于1977年在美國發明的。他們在Dow Chemical公司的

EDI模塊是現在水處理行業中比較新型的設備，即使不用的時候，我們也要做好相關的維護措施，以方便下次的使用。首先我要要清洗元件中的膜元件，然后使用反滲透設備產出來的水

很多朋友會好奇EDI模塊和設備的重量有多重，其實看著它們不是很大，但是真的要拿起來還是挺重的，不過影響重量的因素有很多，需要進行區分。